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EDI無需再生化學品的再生，運行成本低，EDI超純水系統的自動化程度很高，連續工作，出水水質好且穩定，出水電阻率≥15MΩ·CM。...
超純水的誕生可有效的去除了水中的雜質和懸浮物，電阻率達到18 MΩ*cm(25℃)，幫助芯片、單晶硅、半導體等行業實現清潔生產。...
萊特萊德超純水設備結合膜分離技術，采用反滲透、EDI裝置結合混床模塊化設計工藝來制備超純水，其出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求。...
萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2，高于我國國家電子級超純水標準。...
萊特萊德超純水設備采用雙反+EDI+拋光混床組合工藝，能有效去除水中雜質，保證設備出水水質。...
EDI超純水設備操作簡便、無污染，是清潔生產技術，在微電子工業、電工業、醫藥工業、化工工業和實驗室等領域得到日趨廣泛的應用。...
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