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超純水制備采用反滲透技術+EDI超純水設備+拋光混床系統，其出水阻力可達18mΩ·cm(25℃)，具有長期不間斷運行、自動運行、操作簡單、水質穩定、無污染物、成本低等特點。...
超純水是指電阻率為18MΩ·cm(25℃)的水，除水分子外幾乎沒有雜質，完全滿足芯片生產用水需求。...
萊特萊德經常采用反滲透工藝，或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產超純水，出水電導率可達18.2MΩ，滿足芯片行業用水需求。...
電子晶圓行業超純水設備現階段正從晶圓的基本水平起，執行維護晶圓純凈度的崗位職責，不斷平穩地制取達到晶圓生產制造需用的超純水系統，產水量電導率可達18MΩ·CM(25℃)。...
萊特萊德EDI超純水設備產出超純水電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃)，可完全應用于芯片制造業。未來，不僅僅是科技時代，更是環保綠色的時代。...
萊特萊德單晶硅超純水設備采用RO反滲透+EDI或混床拋光技術，可根據不同用戶的需要，為不同水質、不同水量、不同水質要求而定制設計的超純水設備，其水質穩定、操作簡單、運行成本低、綠色環保、易維護...
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